2020年3月「中国展開における知的財産権リスクマネジメント 」

本レポートは、中国に拠点や取引先を持たない、これから中国での事業展開を 検討している日本中小企業への情報提供を目的とするもので、中国に進出する上で遭遇する可能性のある知的財産権関連のリスクを洗い出し、当該リスクの解説や基本的な対処法等についてまとめたものであります。詳しくはこちら

2020年3月「中国における営業秘密管理マニュアル 」

中国での営業秘密侵害実情を踏まえ、日系企業の中国における営業秘密管理体制 の整備またはその見直しに資するべく、中国における裁判例やプラクティス、 営業秘密支援事業1における日系企業の改善事例や、筆者らの経験も踏まえて、 基本マニュアルとしてまとめたものである。詳しくはこちら

2019年12月「中国における映像制作関連契約 」

経済産業省による「平成 30年度 コンテンツ産業新展開強化事業」の一環として、IP FORWARDの弁護士陣が執筆したレポート。中国における映像制作の契約実務について詳述しています。詳しくはこちら

2019年10月「ジュリスト2019年10月号(中国知財法のダイナミズム) 」

中国における知的財産関連法の改正や知的財産専門裁判所の設立など、最近注目されています。知的財産権保護という点では厳しい目が向けられてきた中国でどのような変化が起きているのか。今月号の特集では、中国における知財訴訟の現状や関連諸法の概要を紹介して、その課題を検討します。さらに中国の知財保護と米国通商法にかかる米中摩擦問題を両国それぞれの視点から取り上げます。詳しくはこちら

2019年1月「中国EC及びSNSでの知財侵害問題への対策マニュアル 」

中国 EC および SNS において、日本企業製品の模倣品売買については深刻な問題となっている。この問題に対応するため、特に被害の大きいと思われるタオバオ・アリババ、京東、WeChat の削除要請方法等を詳しく説明しています。詳しくはこちら

2018年9月「中国における第4次産業革命の最新情勢」

中国において、モバイル決済、無人運転、スマート家電、シェアバイク、IoT、ビッグデータ、AI等の技術革新手段により様々なサービスが新しく生まれおり、世界中から注目を集めるようになってきています。これらの技術革新の背景として「第4次産業革命」の進行がありますが、本連載では、中国における第4次産業革命の最新の動向について、政策、技術、知 的財産権の観点から、具体的な実例を交えつつ、紹介しています。詳しくはこちら

2017年4月「ジュリスト2017年4月号(ブランド戦略と商標の活用) 」

ビジネスにおいて競争優位を確保するために必要なブランド。そのブランドイメージを守るために商標制度の活用は重要な鍵となります。今回の特集では、初めて登録が認められたことがニュースになった色彩のみの商標など、実務上の新たな論点を取り上げ、ブランド戦略上の商標の利活用について、法的に検証します。詳しくはこちら

2016年3月「中越国境における模倣品流通実態調査」

中国製の模倣品は引き続き世界中で流通し、その被害は拡大していて、東南アジア諸国の中でも、特に中国と国境を接するベトナムへの模倣品流通問題は後を絶たず、これまでにも多くの事例が確認されているため、中国からベトナムへ流入する模倣品の両国国境における模倣品取引の現状、流入ルート、手口等の実態を明らかにして、今後の両国での対策を紹介しています。詳しくはこちら

2016年3月「2015年中国展示会調査報告書 」

中国での各種展示会において模倣品実態調査を実施し、中国で製造された模倣品が世界に拡散する実態を確認すると共に、展示会における出展業者の侵害形態等の特徴・傾向もあわせて把握・分析しています。詳しくはこちら

2016年2月「中国における化粧品を含む日用品を事例化粧品を含む日用品を事例とした並行輸入品・侵害対策品調査 」

中国国内における並行輸入の実態の把握を試み、各種法律規定を踏まえて分析を加え、実際の事例も参考にしながら、この問題に対する解決策の指針を提示しています。詳しくはこちら

2015年3月「中国コンテンツ市場調査(6分野) 」

本レポートは、以前にジェトロが実施した 「中国コンテンツ市場調査(6分野)」(2012年11月) を基に、データをアップデートしたものであります。詳しくはこちら

2015年2月「中国税関差止案件の民事訴訟に関する調査 」

本調査では、実際の税関差止案件について、民事救済手段の活用が再犯防止等に対して効果的かどうかを検証し、その実態を把握して、ベアリング業界 またその他の業界の事例をまとめたものであります。詳しくはこちら

2014年12月「中国展示会出展時における知財保護対策 」

中国展示会出展時、自社製品販売の機会獲得の場として有益であるが、他方で、自社のブランドへのただ乗りを図ったり、アイデア・ノウハウ等も含め、ロゴ、デザイン、 技術の盗用を図ったりすることを企図する第三者も存在します。不当に自社 の利益を害されないよう必要十分な準備、対応方針をまとめています。詳しくはこちら